兩種不同的但都有效的等離子體清洗技術(shù)能夠用于改善膜層的吸附性并去除殘余氧化層。等離子清洗效果可以在改善薄的附加膜和熱浸膜之間相互擴散方面得到證明。聯(lián)合鎂鋅合金鍍膜已經(jīng)在該試驗線(xiàn)上成功實(shí)現。一次性能試驗的結果可以與先前在實(shí)驗室規模的設備上使用樣品獲得的結果相比。這樣，要把在鋼板上進(jìn)行PVD鍍膜的實(shí)驗室試驗程序的參數傳遞到工業(yè)規模鍍膜設備中已經(jīng)成功得到了證明了。

用于改善腐蝕性質(zhì)的鎂涂層的噴射蒸發(fā)技術(shù)噴射蒸發(fā)技術(shù)是一種PVD工藝，尤其適應于蒸發(fā)低熔點(diǎn)金屬如鋅或鎂等，同時(shí)具有很高的沉積率(達到約10UM/S)。在試驗型生產(chǎn)線(xiàn)上實(shí)現了設備原理如圖8所示。坩堝由高純石墨組成，除了利用一個(gè)在頂蓋上的小噴嘴與分隔的基底室相連外，其余是全部密封的。除了坩堝外，石墨室也能夠被加熱，并提供約95%的蒸汽利用率。碳纖維化合物的大面積加熱器覆蓋著(zhù)坩堝和基底室，并且可以分別單獨控制以確保溫度曲線(xiàn)合乎理想。坩堝容量是按用于4噸卷材計算的?？紤]到該試驗型生產(chǎn)線(xiàn)的基本研究使用，因此沒(méi)有安裝連續蒸發(fā)材料進(jìn)給裝置。加熱系統是完全由溫度控制和穩定的。從而在加熱以后的整個(gè)工藝時(shí)間內得到恒定的鍍膜條件。由于經(jīng)過(guò)優(yōu)化的噴嘴幾何結構設計，使得整個(gè)的帶截面上的膜厚均勻小于等于(正負)10%。鎂的動(dòng)態(tài)沉積率與坩堝溫度的函數關(guān)系已經(jīng)在幾次實(shí)驗運行中測量得到。(圖

在完全的PVD方法里面，金屬化鋼板鍍膜是全部利用PVD進(jìn)行的。因此，膜厚在幾μm級別的鍍膜不得不用氣相沉積。在聯(lián)合方法中，鋼基底已經(jīng)以利用傳統的電鍍或者熱浸鍍的鋅膜或鋅合金膜作了準備。利用PVD，薄的附加膜層在膜厚為典型的約為100nm的級別時(shí)是適用的。這樣，膜層的性質(zhì)就可以修改，同時(shí)也可以提供附加的功能性質(zhì)。這種方法提供了把傳統鍍膜工藝的和上面提及的PVD的在鍍膜設計方面的靈活性聯(lián)合起來(lái)的優(yōu)點(diǎn)。